Высокотехнологическое оборудование

2007-10-23T11:49:00.000-07:00

высокотехнологическое оборудование
- спектрофотометры

- хроматографы
- растровые и просвечивающие микроскопы

- масс-спектрометрические комплексы

- вакуумные универсальные посты (ВУП)

- электронно-лучевая аппаратура (ЭЛА)

- системы анализа изображения

- ультразвуковые диспергаторы

- моечные ванны

- пламенные фотометры

- колориметры

- флуориметры и многое другое.

Услуги по ремонту, модернизации, гарантийное и постгарантийное обслуживание.

КОНТАКТЫ

2007-10-23T11:48:00.000-07:00

40004,Украина, г. Сумы, а/я 836
тел. +38 (0542) 79-27-29
info@katana.sumy.ua

ВАКУУМНАЯ ТЕХНИКА

2007-10-23T11:40:00.000-07:00

Вакуумный универсальный пост ВН 2000 предназначен для получения пленок из различных материалов с высокой производительностью методом магнетронного распыления, а также для подготовки объектов, исследуемых с помощью электронного микроскопа или других аналитических приборов.Прибор может быть применен для исследований в области физики, химии, биологии, медицины и других областях науки и техники.Прибор предназначен для эксплуатации в стационарных лабораторных условиях при температуре окружающего воздуха от 15 до 25oС и относительной влажности не более 80%. Наличие в помещении агрессивных паров недопустимо.
Основные параметры и характеристики
*Остаточное давление в высоковакуумном объеме пpи охлаждении ловушки жидким азотом 1,3 × 10-4 Pa.
*Остаточное давление в высоковакуумном объеме при охлаждении ловушки водой 1,3 × 10-3 Ра.
*Ток накала испарителей 200 А.
*Температура столика для нагрева объектов 1100oС.
*Температура столика для охлаждения объектов, oС, минус 160 .
*Напряжение на выходе высоковольтного выпрямителя 7 к V.
*Максимальный ток тлеющего разряда 47 m A.
*Максимальное напряжение на выходе высоковольтного выпрямителя источника питания магнетрона, кV, не менее 0,9.
*Максимальный ток магнетрона, mА, не менее 300.
*Температура в районе подложки устройства для осаждения пленок не менее 300oС. Время нагрева не более 30 min.
*Время смены подложек не более 7 s , скорость вращения подложек не менее 0,5 s -1.
*Заслонка устройства смены подложек обеспечивает перекрытие потока испаряемого вещества от испарителя к подложкам .
*Устройство дискретного испарения обеспечивает подачу на испаритель в процессе испарения измельченного вещества.
*С помощью пультов управления обеспечивается выход в рабочий режим вакуумной системы из холодного состояния и коммутация вакуумной системы во время работы. Магнитораспыляющая система обеспечивает:
*универсальность процесса, что позволяет получить пленки металлов, сплавов и полупроводников;
*высокую скорость осаждения с возможностью ее регулирования в широких пределах;
*сохранение соотношения компонентов при распылении вещества сложного состава;
*получение особо чистых пленок;
*высокую адгезию пленок и подложки;
*возможность изменения структуры и свойств пленок;
*распыление нескольких материалов без разгерметизации объема;
*низкую пористость пленок даже при малых толщинах;
*небольшое тепловое воздействие на обрабатываемую структуру;
*высокую энергетическую эффективность процесса;
*использование для осаждения и травления широкого класса материалов.

ПРОСВЕЧИВАЮЩИЕ МИКРОСКОПЫ

2007-10-23T11:37:00.000-07:00

Микроскоп ПЭМ-200

предназначен для исследования микроструктуры и фазового состава объектов.
Основные функции микроскопа:
*наблюдение и фотографирование изображений объектов в широком диапазоне увеличений
*исследование объектов в режимах микро-дифракции, малоугловой дифракции,

*дифракции высокого разрешения
*исследование объектов при их наклоне и вращении
*режим высокого контраста для медико-биологических объектов
*автоматизированное компьютерное управление
*компьютерный анализ изображений объектов по специальным программам
*элементный анализ исследуемых объектов

РАСТРОВЫЕ МИКРОСКОПЫ

2007-10-23T11:35:00.000-07:00

SEMMA-2000

Растровый электронный микроскоп-микроанализатор идеально подходит для решения широкого круга проблем в таких областях науки и техники как материаловедение, электроника, геология, медицина и др.. Высокие технические характеристики в растровом режиме и режиме микроанализа позволяют быстро и качественно исследовать рельеф поверхности твердого тела с одновременным определением качественного и количественного элементного состава методом рентгеновского микроанализа. Рентгеновский микроанализ не имеет себе равных по локальности (~1μ), чувствительности (10 - 100 ppm) и скорости проведения среди неразрушающих методов анализа для массивных и тонкопленочных образцов.
Прогнозирование прочностных и эксплуатационных характеристик различных материалов, определение связи между свойствами вещества и особенностями его состава, изучение кристаллической структуры, различных дефектов не только в неорганических, но и биологических объектах - вот неполный круг задач решаемых с помощью микроскопа-микроанализатора. Электронный микроскоп SEMMA-2000 объединяет функции растрового электронного микроскопа высокого разрешения и рентгеновского микроанализатора и используется для исследования рельефа поверхности различных объектов в твёрдой фазе и проведения рентгеновского микроанализа элементного состава вещества по длинам волн и энергиям квантов характеристического рентгеновского излучения.

СПЕКТРОФОТОМЕТРЫ

2007-10-23T11:29:00.000-07:00

Атомно-абсорбционный спектрофотометр С-115М1-ПК

Атомно-абсорбционный спектрофотометр, предназначен для определения концентраций химических элементов в воде, почве, воздухе, пищевых продуктах и т. д. Прибор адаптирован к условиям анализа в биохимических, химико-аналитических лабораториях исследовательских учреждений и промышленных предприятий, производящих элементный анализ проб в химии, агрохимслужбе, геологии, биологии, экологии, металлургии, медицине.

UV-VIS спектрофотометр модели 6305

- одноламповый, три года гарантии на лампу

- самокалибрующаяся лампа с тремя возможнымидлинами волн

- в десять раз больше энергии УФ-излучения

- очень малый дрейф лампы- голографическая дифракционная решетка

Модель 6305 работает с фиксированными линиями излучения и каждый раз, при включении прибора, происходит калибровка длины волны по трём точкам (247, 528 и 824 нм).Большой отсек для проб и держатель кювет изменяемой длины позволяют легко размещать 10-100 миллиметровые пробирки.Большой ЖК-дисплей даёт прекрасную читабельность результатов (длины волн, фотометрических, трансмиссии, концентрации). Тип операции, единицы измерения концентрации и сообщения об ошибках прекрасно различимы в верхней части дисплея при любом освещении и на значительном удалении.

ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВАЯ АППАРАТУРА

2007-10-23T11:24:00.000-07:00

Электронно-лучевая сварочная аппаратура позволяет сваривать за один проход в вакууме металлы и сплавы толщиной от 0,1 мм до 200 мм. Аппаратура оснащена:-системой разверток луча;-системой наведения луча на стык свариваемых деталей;-системой двойного преломления;-системой, предотвращающей дефекты сварного шва при электрических разрядах в пушке.
Малые габариты и вес электронной пушки позволяет устанавливать ее внутри камеры на роботизированный манипулятор. Все это в комплексе качественно отличает аппаратуру от ее аналогов. При этом высокая надежность и доступная цена делает ее достаточно конкурентоспособной на мировом рынке.
ОБЛАСТИ ПРИМЕНЕНИЯ:
Получение особо прочных, вакуумноплотных сварочных швов в:
-самолетостроении (турбины, элементы фюзеляжа и крыльев, шасси);

-аэрокосмическая техника (двигатели, корпуса ракет, челноков);

-кораблестроение (турбины, элементы корпуса, гребные винты);

-энергетическое машиностроение (турбины, узлы ядерных реакторов);

-автомобилестроение и сельскохозяйственное машиностроение (шестерни, валы, ступицы).
ОСОБЕННОСТИ:
-быстродействующая система защиты сварочного шва от пробоя в пушке;
-высокое качество сварочного шва и повторяемость технологического процесса;
-возможность установки пушки на роботизированном манипуляторе.
Стабильные параметры и высокая удельная мощность луча, обеспечивают качество шва, большую глубину проплавления за один проход при высоких скоростях сварки, экономию электроэнергии, трудозатрат и материалов.